学会誌・雑誌等における論文掲載 |
|
|
|
|
|
|
実施年度 |
論文タイトル |
発表者名 |
発表誌名 |
掲載号、ページ、(年) |
和誌/洋誌 |
支援機能名 |
|
20 |
InAs High Electron Mobility Transistors with Buried
Gate for Ultralow-Power-Consumption Low-Noise Amplifier Application |
Chien-I KUO, Heng-Tung HSU, Edward Yi CHANG,
Yasuyuki MIYAMOTO, and Wen-Chung TSERN |
Japanese Journal of Applied Physics |
Vol. 47, No. 9, 2008, pp. 7119–7121 |
洋誌 |
超微細加工 |
|
20 |
Interfacial Microstructure of Aluminum/Metallic
Glass Lap Joints Fabricated by Magnetic Pulse Welding |
Mitsuhiro Watanabe, Shinji Kumai, Go Hagimoto,
Qingsheng Zhang and Koji Nakayama, |
Materials Transactions, |
Accepted |
洋誌 |
計測・分析 |
|
20 |
Conversion of Surface Plasmon Polaritons to Light by
a Surface Step, |
N. Yamamoto and Takahiro Suzuki, |
Appl. Phys. Lett. |
93, 093114-3 (2008). |
洋誌 |
超微細加工 |
|
20 |
電子線励起発光法による金属ナノ構造における表面プラズモンの研究 |
鈴木喬博、山本直紀 |
日本結晶学会誌 |
50, No.4,(2008)282-287. |
和誌 |
超微細加工 |
|
20 |
Coupling of MnZn-ferrite films onto electronic
components by a novel solution process for high frequency applications |
Subramani K Ailoor, Takaaki Taniguchi, Koichi
Kondo, Masaru Tada, Takashi Nakagawa, Masanori Abe, Masahiro Yoshimura and
Nobuhiro Matsushita |
Journal of Materials Chemistry |
to be published in 2009. |
洋誌 |
計測・分析 |
|
20 |
InAs-Channel High-Electron-Mobility Transistors for
Ultralow-Power Low Noise Amplifier Applications |
Chia-Yuan Chang, Heng-Tung Hsu, Edward Yi Chang and
Yasuyuki Miyamoto |
Jpn. J. Appl. Phys., |
Vol. 48, No. 4, pp. 04C094-1 – 04C094-3, 2009 |
洋誌 |
超微細加工 |
|
|
|
|
|
|
|
|
|
学会等における口頭・ポスター発表 |
|
|
|
|
|
|
実施年度 |
講演タイトル |
発表者名 |
講演会名 |
発表年月日 |
国内/国際 |
口頭/ポスター |
支援機能名 |
19 |
エッチング耐性向上添加剤エッチング耐性向上添加剤フラーレン誘導体フラーレン誘導体~ NS H340 ~ |
田中 克知 |
日本化学会 近畿支部「研究最前線講演会」 |
2008.5.9 |
国内 |
口頭 |
超微細加工 |
19 |
<EB Resist application>-Additional effect of
Fullerene derivative (NS G100 ) Additional effect of Fullerene derivative (NS
G100 )into ZEP520A (ZEON Corporation) |
有川 峯幸 |
Printed Electronics Asia2008 |
2008.10.9 |
国際 |
口頭 |
超微細加工 |
20 |
ナノグラフェンの作製と化学修飾による電子物性設計 |
高井和之 |
日本物理学会2008年秋季大会 |
2008/9/20-23 |
国内 |
口頭 |
超微細加工 |
20 |
電子線励起によるプラズモニック結晶の表面プラズモン-光変換の放射角度分布測定 |
鈴木喬博,山本直紀 |
日本顕微鏡学会 第64回学術講演会 |
2008/5/21-23 |
国内 |
口頭 |
超微細加工 |
20 |
プラズモニック結晶のSPPモード観察 |
鈴木喬博、山本直紀、 |
日本物理学会2008年秋季大会 |
2008/9/20-23 |
国内 |
口頭 |
超微細加工 |
20 |
電子線励起発光法による表面プラズモンの研究 |
山本直紀,鈴木喬博 |
日本物理学会2009年第64回年次大会 |
2009/3/27-30 |
国内 |
口頭 |
超微細加工 |
20 |
Band structure of 1-Dimensional Plasmonic crystals
using by Electron Beam Induced Light Emission |
T. Suzuki and N. Yamamoto |
NSS5 SP-STM2 Joint Int. Conf., |
2008/7/15-19 |
国際 |
口頭 |
超微細加工 |
20 |
“Mn-Zn ferrite Films by a Solution Processes for
Electromagnetic Compatible(EMC) Devices” |
N. Matsushita, A. K. Subramani et al. |
The 10th International Conference on Ferrites,
Chengdu China in 2008 |
2008/10/10-13 |
国際 |
口頭 |
計測・分析 |
20 |
OBSERVATION OF COULOMB STAIRCASE USING AU
NANOPARTICLE AND ELECTROLESS GOLD PLATED NANOGAP ELECTRODES AT ROOM
TEMPERATURE |
V. Serdio, S. Suzuki, H. Fukuno, S. Kano, M.
Kanehara, T. Teranishi, and Y. Majima. |
Korea Japan joint Forum 2008 Co-organized with the
9th Chitose International Forum on Photonics Science and Technology. |
2008/10/23-25 |
国際 |
ポスター |
超微細加工 |
20 |
金ナノ粒子とナノギャップ電極を用いた室温におけるクーロンステアケースの観察 |
V. Serdio, 福野 裕之, 鈴木 聖一, 金原正幸, 寺西利治, 真島 豊, |
第69回応用物理学会学術講演会 |
2008/9/20-23 |
国内 |
ポスター |
超微細加工 |
20 |
ナノグラフェンの電子輸送物性 |
西村康寛,高井和之,榎敏明 |
日本物理学会第64回年次大会 |
2009/3/27-30 |
国内 |
口頭 |
超微細加工 |
20 |
プラズモニック結晶からのSmith-Purcell放射 |
加藤雅博、山本直紀 |
日本物理学会2008年秋季大会 |
2008/9/20-23 |
国内 |
口頭 |
超微細加工 |
20 |
プラズモニック結晶からのSmith-Purcell放射II |
加藤雅博,山本直紀 |
日本物理学会2009年第64回年次大会 |
2009/3/27-30 |
国内 |
口頭 |
超微細加工 |
20 |
アモルファスカーボン超薄膜の電子輸送特性 |
鳥屋尾健二,高井和之,榎敏明, |
日本物理学会2008年秋季大会 |
2008/9/20-23 |
国内 |
口頭 |
超微細加工 |
20 |
A 40-nm-Gate InAs/InGaAs Composite -Channel HEMT
with 2200 mS/mm and 500-GHz fT |
C.-I. Kuo, H.-T. Hsu, Chung Li, C.-Y. Wu, E. Y.
Chang, Y. Miyamoto, Y.-L. Chen, and D. Biswas, |
International Conference on Indium Phosphide &
Related Materials (IPRM 2009), Tu.2.4, |
2009/5 |
国際 |
口頭 |
超微細加工 |
20 |
“(Ga,Mn)Asマイクロバーにおける磁化の光誘起歳差運動” |
須田慶太、小林暁、青山淳、宗片比呂夫 |
第56回応用物理学関係連合講演会 |
2009.3.30 |
国内 |
口頭 |
超微細加工 |
20 |
Fabrication and Measurement of Photo-Responsive
Atomic Switch |
Takami Hino, Hirofumi Tanaka, Tsuyoshi Hasegawa,
Yusuke Miyake, Tomoko Ebihara, Masakazu Aono, Takuji Ogawa. |
AsiaNANO 2008 |
2008/11/3-7 |
国際 |
口頭 |
超微細加工 |
20 |
有機分子とナノギャップ電極による機能創発:光応答性原子スイッチデバイスの作製 |
日野貴美、田中啓文、長谷川剛、三宅雄介、海老原知子、青野正和、小川琢治、 |
新学術領域研究分子ナノシステムの創発化学領域発足全体会議(ポスター発表) |
2009/1/12-13 |
国内 |
ポスター |
超微細加工 |
20 |
プログラマブル回路実現へ向けた原子スイッチデバイスの光駆動化 |
日野貴美、田中啓文、長谷川剛、三宅雄介、海老原知子、青野正和、小川琢治 |
第56回応用物理学会関係連合講演会 |
2009/3/30-4/2 |
国内 |
口頭 |
超微細加工 |