| 学会誌・雑誌等における論文掲載 | |||||||
| 実施年度 | 論文タイトル | 発表者名 | 発表誌名 | 掲載号、ページ、（年） | 和誌／洋誌 | 支援機能名 | |
| 21 | TEM-CL法による表面プラズモンの研究 | 山本直紀、鈴木喬博、竹内健悟 | 顕微鏡 44 |
No.4 , 268-274（２００９） | 和誌 | 超微細加工 | |
| 21 | DC and RF Performance Improvement of 70nm Quantum
Well Field Effect Transistor by Narrowing Source–Drain Spacing Technology |
Chien-l Kuo, Heng-Tung Hsu, Edward Yi Chang, Yasuyuki Miyamoto, Chien-Ying Wu, Yu-Lin Chen, and Yu-Lin Hsiao | Jpn. J. Appl. Phys., | vol.49,010212,2010 | 洋誌 | 超微細加工 | |
| 21 | 30-GHz Low-Noise Performance of
100-nm-Gate-Recessed n-GaN/AlGaN/GaN HEMTs |
Chia-Ta Chang, Heng-Tung Hsu, Edward Yi Chang, Chien-I Kuo, Jui-Chien Huang, Chung-Yu Lu, and Yasuyuki Miyamoto | IEEE Electron Device Lett. | vol. 31, no. 2, pp. 105–107, Feb. (2010) | 洋誌 | 超微細加工 | |
| 21 | All-optical 90-degree switching of magnetization in a ferromagnetic Ga0.98Mn0.02As microbar | J. Aoyama, et al. | JAP 107 | 09C301 (2010) | 洋誌 | 超微細加工 | |
| 21 | Cathodoluminescent Spectroscopic Imaging of Surface Plasmon Polaritons in a 1-Dimensional Plasmonic Crystal | T. Suzuki and N. Yamamoto | Opt. Express, 17, No.26 | 23664-23671 (2009) | 洋誌 | 超微細加工 | |
| 21 | Photo-Assisted Formation of Atomic Switch | Takami Hino, Hirofumi Tanaka, Tsuyoshi Hasegawa, Masakazu Aono, Takuji Ogawa | Small(submitted) | 洋誌 | 超微細加工 | ||
| 21 | Photo-Induced Precession of Magnetization in (Ga,Mn)As Microbars | K. Suda, et al. | IEEE Trans. Mag. 46 | June issue (2010), in print. | 洋誌 | 超微細加工 | |
| 21 | RF Performance Improvement of Metamorphic High Electron Mobility Transistor Using (InxGa1-xAs)m/(InAs)n Superlattice-channel Structure for Millimeter Wave Applications | C. I. Kuo, et al | IEEE Electron Device Lett., | 2010 | 洋誌 | 超微細加工 | |
| 学会等における口頭・ポスター発表 | |||||||
| 実施年度 | 講演タイトル | 発表者名 | 講演会名 | 発表年月日 | 国内／国際 | 口頭／ポスター | 支援機能名 |
| 21 | Investigation Logic Performances of 80-nm HEMTs for InxGa1-xAs | Faiz Aizad,Heng-Tung Hsu,Chien-I Kuo,Chien-Ying Wu,Edward Yi Chang,Yasuyuki Miyamoto,Guo-Wei Huang,Yu-Lin Chen,and Yu-Sheng Chiu | 37th ISCS, Takamatsu,WeD3-3 | 2010.6.2 | 国内 | 口頭 | 超微細加工 |
| 21 | An 80 nm In0.7Ga0.3As MHEMT with Flip-Chip Packaging for W-Band LNA Applications | C.-T. Wang, H.-T. Hsu, C.-I Kuo, W.-C. Lim,Y. Miyamoto, E. Y. Chang and Y.-S. Chiu | 22nd IPRM, Takamatsu, WeP-44 | 2010.6.2 | 国内 | 口頭 | 超微細加工 |
| 21 | Molecular resists based on Fullerene derivatives | K. Tanaka, 2K. Kawakami and 2N. Harada | 22nd International Microprocesses and Nanotechnology Conference | 2009.11.16 | 国内 | 口頭 | 超微細加工 |
| 21 | Shape transitions of Ag precipitates during aging in Cu-Ag single crystals | T. Miyazawa, T. Fujii, S. Onaka, M. Kato | 2nd International Symposium on Advanced Plasma Science and its Applications for Nitrides and Nanomaterials (ISPlasma2010) | 2010.3.8 | 国内 | ポスター | 計測・分析 |
| 21 | Cu-Fe合金におけるα-Fe粒子の構造変化 | 金沢大 津田大善（院），池田洋平（学），渡邊千尋，門前亮一 | 平成21年度日本金属学会・日本 鉄鋼協会北陸信越支部連合講演会 |
2009.12.5 | 国内 | 口頭 | 計測・分析 |
| 21 | ゲート電場に依存したグラフェンFETへの酸素吸着効果 | 佐藤慶明，高井和之，榎敏明 | 日本物理学会2010年春季大会 | 2010/3/20-23 | 国内 | 口頭 | 超微細加工 |
| 21 | グラフェン端近傍における局所電子構造の高分解能測定 | 酒井謙一，高井和之，福井賢一、榎敏明 | 日本物理学会2009年秋季大会 | 2009/9/25-28 | 国内 | 口頭 | 超微細加工 |
| 21 | Investigation of the local electronic structure in the vicinity of the graphene edge by means of scanning tunneling microscopy | Ken-ichi Sakai, Kazuyuki Takai, Ken-ichi Fukui, Toshiaki Enoki | The 18th International Conference on Electronic Properties of Two-Dimensional Systems (EP2DS-18) | 2009/7/19-24 | 国内 | ポスター | 超微細加工 |
| 21 | 局在表面プラズモン共鳴を用いた有機・無機ハイブリッド薄膜のナノパターニング | 金谷考洋, 瀬川浩代, 矢野哲司, 柴田修一 | 日本セラミックス協会2010年年会 | 2010.3.22 | 国内 | 口頭 | 超微細加工 |
| 21 | (Ga,Mn)As MTJの高周波応答 | 井上雄太,山口武，吉野淳二 | 第57回応用物理学関係連合講演会 | 2010/3/17-20 | 国内 | 口頭 | 超微細加工 |
| 21 | Single-electron transistors by stable chemisorbed Au nanoparticle | Y. Azuma, Y. Yasutake, K. Kono, X. Li, M. Kanehara, T. Teranishi, S. Chorley, C.G. Smith and Y. Majima | G-COE PICE International Symposium on Silicon Nano Devices in 2030-Prospeccts by World’s Leadin Scientists | 2009/10/13-14 | 国内 | ポスター | 超微細加工 |
| 21 | 金クラスターとナノギャップ電極を用いた室温におけるクローンブロッケード現象の観測 | 村木太郎、V. Serdio、鈴木聖一、加納伸也、東康男、金原正幸、寺西利治、真島豊 | 第70回応用物理学会学術講演会 | 2009/9/8-11 | 国内 | 口頭 | 超微細加工 |
| 21 | Study of the self-termination process in electroless gold plating of electrodes towards nanogap based single electron transistors | V. Serdio, S. Suzuki, S. Kano, T. Muraki, M. Kanehara, T. Teranishi, and Y. Majima | G-COE PICE International Symposium on Silicon Nano Devices in 2030-Prospeccts by World’s Leadin Scientists | 2009/10/13-14 | 国内 | ポスター | 超微細加工 |
| 21 | 単電子トランジスタ作製に向けたナノギャップ電極における無電解メッキ法の改善 | V. Serdio, 鈴木聖一, 加納伸也, 村木太郎, 東康男, 金原正幸, 寺西利治, 真島豊 | 第70回応用物理学会学術講演会 | 2009/9/8-11 | 国内 | 口頭 | 超微細加工 |
| 21 | 磁気光学効果の局所検出による(Ga,Mn)As細線の90度磁化スイッチ | 中原 大輔，青山 淳，須田 慶太，小林 暁，宗片 比呂夫 | 第57回春季応用物理学会 | 2010/3/17-20 | 国内 | 口頭 | 超微細加工 |
| 21 | TEM-CL法によるSmith-Purcell放射の研究 | 山本直紀, 加藤雅博 | 日本顕微鏡学会 |
2009/5/27-29 | 国内 | 口頭 | 超微細加工 |
| 21 | 金属表面のナノ構造からのプラズモン発光 | 鈴木喬博，山本直紀 | 日本顕微鏡学会 | 2009/5/27-29 | 国内 | 口頭 | 超微細加工 |
| 21 | 欠陥導入した1次元プラズモニック結晶の局在モード | 鈴木喬博，山本直紀 | 日本物理学会2009秋季大会 | 2009/9/25-28 | 国内 | 口頭 | 超微細加工 |
| 21 | プラズモニック結晶からのSmith-Purcell放射 III | 山本直紀, 加藤雅博 | 日本物理学会2009秋季大会 | 2009/9/25-28 | 国内 | 口頭 | 超微細加工 |
| 21 | 1次元プラズモニック結晶中のCavityの発光 | 鈴木喬博，山本直紀 | 日本物理学会第65回年次大会 |
2010/3/20-23 | 国内 | 口頭 | 超微細加工 |
| 21 | 透過電子顕微鏡による表面プラズモンポラリトン発光の顕微分光 | 山本直紀 | 第57回応用物理学関係連合講演会 |
2010/3/17-20 | 国内 | 口頭 | 超微細加工 |
| 21 | 光伝導性有機薄膜を有するナノギャップ電極の機能創発 |
日野貴美、田中啓文、長谷川剛、青野正和、小川琢治 | 新学術領域研究「分子ナノシステムの創発化学」第一回全体会議 | 2009/8/21-22 | 国内 | ポスター | 超微細加工 |
| 21 | 微細塑性加工により誘起される再結晶組織と加工変形組織の解析 | 山中晃徳, 川西毅, 大藤惇生, 吉野雅彦 | 平成22年度日本塑性加工学会春季講演大会 | 2010/5/28-30 | 国内 | 口頭 | 計測・分析 |
| 21 | Process optimization of electron beam lithography
using high resolution resist TEBN-1 |
S.Tono, F. Iwasaki, J. Iwai and Y. Chikashige | INTERNATIONAL CONFERENCE on ELECTRON, ION, and PHOTON BEAM TECHNOLOGY & NANOFABRICATION | 2009/5/26-29 | 国際 | ポスター | 超微細加工 |
| 21 | Coulombblockade at room temperature by using gold nanoparticles and electroless gold plated nanogap electrodes | T. Muraki, V. Serdio, S. Suzuki, S. Kano, Y. Azuma, M. Kanehara, T. Teranishi, and Y. Majima | MRS fall meeting | 2009/11/30-12/4 | 国際 | ポスター | 超微細加工 |
| 21 | Single-electron transistors with high-precision stabilityby chemisorbed Au nanoparticle | Y. Azuma, Y. Yasutake, K. Kono, M. Kanehara, T. Teranishi, S. Chorley, C.G. Smith and Y. Majima | KJF International Conference on Organic Materials for Electronics and Photonics (KJF-ICOMEP) | 2009/8/23-26 | 国際 | ポスター | 超微細加工 |
| 21 | SELF-TERMINATING ELECTROLESS GOLD PLATING PROCESS
FOR NANOGAP ELECTRODES TOWARD ROOM TEMPERATURE OPERATIONAL SINGLE-ELECTRON TRANSISTORS |
V. Serdio, S. Suzuki, H. Fukuno, S. Kano, M. Kanehara, T. Teranishi, and Y. Majima | MRS fall meeting | 2009/11/30-12/4 | 国際 | ポスター | 超微細加工 |
| 21 | Self-termination Process in Electroless Au Plating of Electrodes towards Nanogap based Single Electron Transistors | V. Serdio, S. Suzuki, S. Kano, T. Muraki, M. Kanehara, T. Teranishi, and Y. Majima | KJF International Conference on Organic Materials for Electronics and Photonics (KJF-ICOMEP) | 2009/8/23-26 | 国際 | ポスター | 超微細加工 |
| 21 | Light Emission of Surface Plasmon Excited by Fast Electrons | N. Yamamoto | CLEO/Europe-EQEC 2009 | 2009/6/14-19 | 国際 | 口頭 | 超微細加工 |
| 21 | Fabrication and Measurement of Photo-Responsive Atomic Switch | Takami Hino, Hirofumi Tanaka, Tsuyoshi Hasegawa,Yusuke Miyake, Masakazu Aono, Takuji Ogawa | ACSIN 10 | 2009/ 9/21-25 | 国際 | ポスター | 超微細加工 |