特許
トッキョ
業務
ギョウム
コード
実施
ジッシ
年度
ネンド
発明
ハツメイ
の
名称
メイショウ
発明者
ハツメイシャ
出願
シュツガン
人
ニン
出願
シュツガン
登録
トウロク
区分
クブン
出願
シュツガン
番号
バンゴウ
（
出願
シュツガン
日
ビ
）
出願
シュツガン
区分
クブン
出願
シュツガン
国
コク
登録
トウロク
番号
バンゴウ
（
登録日
トウロクビ
）
支援
シエン
機能
キノウ
名
メイ
メモ
07010016
22
EUV光露光用レジスト組成物並びにこれを用いた
レジストパターン形成方法
老泉博昭・田中克知・川上公徳
三菱化学株式会社
出願
シュツガン
特願2011-058039 （
平成
ヘイセイ
23
年
ネン
3
月
ガツ
16
日
ニチ
）
国内
コクナイ
日本
ニホン
超
チョウ
微細
ビサイ
加工
カコウ
AA191013
AA191003
AA191003
AA191015
AA191015