F東工H15-002 による支援成果
1) K. Sasao, Y. Azuma, N. Kaneda, E. Hase, Y. Majima and Y. Miyamoto, "Study of SAM transistor with an air-bridge structure"第22回電子材料シンポジウム D-8,(2003)(口頭発表・国内)
2) K. Sasao, Y. Azuma, N. Kaneda, E. Hase, Y. Miyamoto, and Y. Majima, "Observation of current modulation in SAM-FET fabricated by an air-bridge structure", Solid State Devices and Materials, P7-5(2003)(口頭発表・国際)
3) K. Sasao, Y. Azuma, N. Kaneda, E. Hase, Y. Miyamoto and Y. Majima, "Observation of Current Modulation through Self-Assembled Monolayer Molecule in Transistor Structure"Japanese Journal of Applied Physics, vol.43, No.3A, pp.L337-L339 (2004) (原著論文による発表・国際)
4) 金田直隆,笹尾和樹,東康男,長谷英治,宮本恭幸,真島豊,"エアブリッジ構造を用いたSAM-FET のドレイン電流変調の観測" 2003年秋季 第64回応用物理学会学術講演会 2p-S-5(2003) (口頭発表・国内)

F東工H15-003 による支援成果
5) 折田賢児,田村聡之,瀧澤俊幸,上田哲三,油利正昭,瀧川信一"長周期フォトニック結晶による青色GaN LEDの光取出し向上"第64回秋季応用物理学会, 31p-ZM-17, 2003 (口頭発表・国内)
6) Kenji Orita, Satoshi Tamura, Toshiyuki Takizawa, Tetsuzo Ueda, Masaaki Yuri, Shinichi Takigawa, and Daisuke Ueda,"Enhanced Light Extraction Efficiency of GaN-based Blue LED Using Extended-Pitch Surface Photonic Crystal" International Conference on Solid State Devices and Materials F-8-3(2003) (口頭発表・国際)
7) Kenji Orita, Satoshi Tamura, Toshiyuki Takizawa, Tetsuzo Ueda, Masaaki Yuri, Shinichi Takigawa, and Daisuke Ueda, "Realization of Photonic Crystal Blue LED by means of Extended-Pitch Design", Microoptics Conference D2 (2003) (口頭発表・国際)
8)Kenji ORITA, Satoshi TAMURA, Toshiyuki TAKIZAWA, Tetsuzo UEDA, Masaaki YURI,Shinichi TAKIGAWA and Daisuke UEDA″High-Extraction-E.ciency Blue Light-Emitting Diode Using Extended-Pitch Photonic Crystal″Japanese Journal of Applied Physics, Vol. 43, No. 8B, pp. 5809-5813 (2004)(原著論文による発表・国際)
9) 折田賢児, "次世代照明用フォトニック結晶青色発光ダイオード", 2003 松下電器の新技術 pp.38-42,(2004).(左記以外の誌上発表・国内)

F東工H15-004 による支援成果
10) 堀利浩、尾園哲郎、折橋直行、浅田雅洋:三重障壁共鳴トンネルダイオードによるミリ波帯周波数ミキシング特性, 第51 回応用物理学関係連合講演会, 30a-ZE-10, 東京2004 年3 月(口頭発表・国内)).

F東工H15-008 による支援成果
11) M. Yoshizawa, S. Moriya, H. Nakano, Y. Shirai, T. Morita, T. Kitagawa, and Y. Miyamoto, "Impact of latent image quality on line edge roughness in electron beam lithography", 2004 International Microprocesses and Nanotechnology Conference, Tokyo, Japan, October, 2003. (口頭発表・国際)

F東工H15-010 による支援成果
12) Kenya Goto, Young-JooKim, Takayuki Kirigaya and Yoshiki Masuda; Near-field Evanescent Wave Enhancement with Nanometer Sized Metal Grating and Microlens Array in the Parallel Optical Recording Head, Japanese Journal of Applied Physics (2004), Vol. 43, No. 8B, pp. 5814-5818 (2004)(原著論文による発表・国際))
13) Kenya GOTO, Takayuki KIRIGAYA, Yoshiki MASUDA, Young-Joo KIM, Yasuyuki MIYAMOTO, Shigehisa ARAI, メDesign and Experiments of a Near-Field Optical Disk Head for Very High Efficiency″SCANNING Vol.26, No.1-5, pp,I-68-I72 (2004)(原著論文による発表・国際))

F東工H15-016 による支援成果
14) 小黒大,越後雅敏″新規な低分子系レジスト材料の合成と評価(1)″高分子学会第53回高分子討論会, 1Pd116 北海道 2004年9月(口頭発表・国内)

F東工H15-017 による支援成果
15) 飯森弘和・芝崎祐二・上田充・大和田貴紀・石井宏寿, "電子線リソグラフィー用低分子アモルファス材料の合成", 第53回高分子学会年次大会(口頭発表・国内)

F東工H15-019 による支援成果
16) 小黒大,越後雅敏″新規な低分子系レジスト材料の合成と評価(2)″高分子学会第53回高分子討論会, 1Pc117 北海道 2004年9月(口頭発表・国内)
F東工H15-018 による支援成果
17) 長谷英治, 東康男, 金田直隆, 宮本恭幸, Hoon-Kyu Shin, 真島豊、"自己組織化単分子膜における負性微分コンダクタンスの検討", 2004年春季 第51回応用物理学会学術講演会30p-E-10(2004)

F東工H15-021 による支援成果
18) M. Yoshizawa, S. Moriya, H. Nakano, Y. Shirai, T. Morita, T. Kitagawa, and Y. Miyamoto, "The impact of latent image quality on line edge roughness in electron beam lithography", Jpn. J. Appl. Phys, (2004) in press. (原著論文による発表・国際・掲載決定済み)
19) M. Yoshizawa, S. Moriya, H. Nakano, Y. Shirai, T. Morita, T. Kitagawa, and Y. Miyamoto, "The impact of latent image quality on line edge roughness in electron beam lithography", Japanese Journal of Applied Physics, vol.43,No.6B, pp.3739-3743 (2004), (原著論文による発表・国際)
20) M. Yoshizawa, Y. Miyamoto, H. Nakano, T. Kitagawa, and S. Moriya, "Challenges to Ultra-thin Resist Process for LEEPL", J. Photopolymer Sci. Technol., vol.17, no.4, 2004, pp.581-586. (原著論文による発表・国際)
21) Y. Miyamoto, Y. Shirai, M. Yoshizawa and K. Furuya, "20 nm Periodical Pattern by Calixarene Resists: Comparison of CMC[4]AOMe with MC[6]AOAc", 2004 International Microprocesses and Nanotechnology Conference, 28P-6-54, Osaka, Oct., 2004 (口頭発表・国際)