F東工H16-004　による支援成果 1) Eiji Hase, Hoon-Kyu Shin, Yutaka Majima, "Negative differential conductance and probabilistic switching in the device with Au / the nitro oligophenylene ethynylenes / Au structure ", Third International Conference om Molecular Electronics and Bioelectronics (M&BE3), 4P-B14, Tokyo, 2005, (口頭発表・国際) 2) Kyung-Han Jung, Eiji Hase, Yuhsuke Yasutake, Hoon-Kyu Shin, Yutaka Majima "Observation of switching characteristic of nitro oligophenylene ethynylenes by using scanning tunneling microscopy ", Third International Conference om Molecular Electronics and Bioelectronics (M&BE3), 4P-C04, Tokyo, 2005, (口頭発表・国際) F東工H16-006　による支援成果 3) 折田賢児、ﾓフォトニック結晶を用いた青色LEDの高効率化ﾓ, 月刊ディスプレイ 11巻5月号　45頁　(2005) (左記以外の誌上発表・国内・掲載予定) 4) 折田賢児、田村聡之、瀧澤俊幸、上田哲三、油利正昭、瀧川信一、ﾓフォトニック結晶による青色LEDの高効率化ﾓ, 第16回月刊ディスプレイ技術セミナー「ハイパワーLEDとその応用技術ﾓ」　東京、2005年4月（口頭発表・国内） 5) Kenji ORITA、Satoshi TAMURA、Toshiyuki Takizawa、Tetsuzo Ueda、Masaaki YURI、Shinichi TAKIGAWA ﾒPhotonic Crystal Blue LEDsﾓ, 2005　高亮度白色LED市場現況研討曾 OPTOTECH（光電科技）セミナー, 台湾　 2005年4月(口頭発表・国際) 6) 折田賢児　ﾒ青色LEDの発光効率向上ﾓ,「フォトニック結晶技術の新展開」(株)CMC出版(左記以外の誌上発表・国内・掲載予定) 7) 折田賢児　ﾒフォトニック結晶を用いた青色LEDの高効率化ﾓ 光産業技術振興協会　湘南シンポ報告書「フォトニック結晶：真のブレークスルーには何が必要か（微細構造光デバイス・ブレークスルー技術フォーラム）(左記以外の誌上発表・国内・掲載予定) F東工H16-011及び019による支援成果 8) 小黒大・越後雅敏　"多環芳香環を有する分子性レジスト材料の評価" 日本化学会第85春季年会アドバンスト・テクノロジー・プログラム3K4-01(口頭発表・国内) 9) 小黒大・越後雅敏　"多環芳香族分子性レジストの評価"2005年春季 第52回応用物理学関係連合講演会 31p-YW-11, 埼玉、2005年3月(口頭発表・国内) F東工H16-013　による支援成果 10) 袴田、小川、駒田、津田、北野 「ホログラフィック素子用サブ波長構造の解析に関する研究」、第52回応用物理学関係連合講演会、29a-YS-10、埼玉、2005年3月29日（口頭発表・国内） F東工H16-014　による支援成果 11) Taku Hirayama, Daiju Shiono, Shogo Matsumaru, Toshiyuki Ogata,Hideo Hada, Junichi Onodera, Tadashi Arai, Toshio Sakamizu,Atsuko Yamaguchi, Hiroshi Shirai, Hiroshi Fukuda, Mitsuru Ueda, ﾒDevelopment of Amorphous Polyphenol Resists with Low Molecular Weight and Narrow Dispersion for EB Lithographyﾓ, International Microprocesses and Nanotechnology Conference,　 27A-2-2, Osaka, Oct., 2004 (口頭発表・国際) 12) 平山拓,　ﾒ,低分子多核フェノールからなる化学増幅型電子線レジストの開発ﾓ, 第１４回プロセス評価・分析技術セミナー(口頭発表・国内) 13) T．Hirayama, D. Shiono, S. Matsumaru, T.Ogata, H. Hada, J. Onodera, T. Arai, T. Sakamizu, A. Yamaguchi, H. Shiraishi, H. Fukuda, and M.Ueda, ﾒDepth Profile and Line-edge Roughness of Low Molecular Weight Amorphous EB Resistﾓ, Jpn. J. Appl. Phys. 44 (2005) in press.（原著論文による発表・国際・掲載決定済み） F東工H16-017および37による支援成果 14) Hiroki Yonemitsu, Tadashi Kawazoe, and Motoichi Ohtsu, "Nanofabrication using Nonadiabatic Near-Field Photolithography", IEEE-NANO2005, Nagoya, Japan, July, 2005. (口頭発表・国際・発表予定) F東工H16-022　による支援成果 15) 小川、袴田、駒田、津田、北野 「ナノホールアレイ構造を利用したマルチレベル位相ホログラム」、第52回応用物理学関係連合講演会、29a-YS-9、埼玉、2005年3月29日（口頭発表・国内） F東工H16-026　による支援成果 16) 鈴木喬博，山本直紀：1次元金属フォトニック構造の表面プラズモン、日本物理学会　2004年秋季大会15aXC-12、青森、2004年9月　(口頭発表・国内) 17) 鈴木喬博，山本直紀：1次元金属フォトニック構造の表面プラズモンII、日本物理学会2005年春季大会，27pXP-5、千葉、2005年3月（口頭発表・国内） F東工H16-038　による支援成果 18) 駒田、小川、袴田、津田、北野 「サブ波長構造を利用した位相ホログラム」、レーザー学会東京支部大会、P7、東海大（平塚）、2005年3月18日（口頭発表・国内） F東工H16-043　による支援成果 19) 清家　綾，大泊　巌：“Siナノ細線における注入イオンの挙動”，第52回応用物理学関係連合講演会，1a-P6-11、埼玉　2005年3月（口頭発表・国内）