実施機関名 | 発表タイトル | 発表者氏名 | 発表者所属機関名 | 掲載新聞・雑誌名等 | 掲載日 |
(掲載予定日) | |||||
株式会社ノベルクリスタルテクノロジー | 世界初、酸化ガリウムエピ膜を用いたトレンチMOS型パワートランジスタの開発に成功 −従来のシリコンMOSFETの損失を1/1,000に− | 佐々木 公平 | 株式会社ノベルクリスタルテクノロジー | タムラ製作所プレスリリース 及びマイナビニュース | 2017/11/28 |
株式会社ノベルクリスタルテクノロジー | 超低消費電力の酸化ガリウムショットキーバリアダイオードの開発に成功 −従来より40%低損失のダイオードを低コストで実現可能に− | 佐々木 公平 | 株式会社ノベルクリスタルテクノロジー | タムラ製作所プレスリリース 及びスマートジャパン プレスリリースサイト | 2017/9/12 |