| 課題番号 | 支援申込者 | 申込課題 | 支援形態 |
|---|---|---|---|
| F東工H14-001 | 日本電気 | ドライエッチ回折格子を有する高機能光集積デバイスの研究 | 技術代行 |
| F東工H14-002 | 東工大・理工・電子物理工学専攻・真島研 | 電子ビーム露光を用いたナノ分子デバイスの試作に関する研究 | 共同研究 |
| F東工H14-003 | 松下電器産業 | 電子ビーム露光による次世代光デバイス用微細パターンの作製支援 | 技術代行 |
| F東工H14-004 | 富士電機 | 大面積・微細構造体の作製技術の研究 | 技術代行 |
| F東工H14-005 | 産総研 | 微小ギャップFETパターンの形成 | 外部研究者の直接使用 |
| F東工H14-006 | 東工大・総理工・青柳研 | 量子相関素子をめざしたナノ構造の形成 | 技術代行 |
| F東工H14-007 | 通信総研 | 共鳴トンネル型量子効果サブミリ波デバイスの作製とその性能評価 | 共同研究 |
| F東工H14-008 | 群馬大学・電気電子工学科・大畠昭子 | 単一電子効果を用いたデジタルイメージセンサ | 共同研究 |
| F東工H14-009 | 東工大・理工・物性物理学専攻・南研 | 低密度量子ドット顕微分光スペクトル測定の為のマスク作製 | 技術代行 |
| F東工H14-010 | 三菱ガス化学 | 新規電子線レジストの開発 | 技術代行 |
| F東工H14-011 | 三洋電機株式会社 | 微細パターンの形状評価 | 技術代行 |
| F東工H14-012 | ソニー | 電子ビーム用レジストの微細パターン形成 | 共同研究 |