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支援機能名 |
業務形態名 |
実施課題名 |
支援者の所属 |
申請者 |
主な利用装置名 |
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| 2008-東工大-01 |
超微細加工 |
共同研究 |
超低パワーLNA応用の為のInAs/InGaAsチャネル |
台灣國立交通大學 |
張 翼 |
電子ビーム露光装置 |
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| 2008-東工大-02 |
超微細加工 |
技術代行 |
1次元及び２次元位相シフトグレーティングマスクの評価 |
南京大学 |
クンジー・チェン |
電子ビーム露光装置・走査電子顕微鏡・リアクティブイオンエッチング装置 |
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| 2008-東工大-03 |
超微細加工 |
技術代行 |
新しいポジ型化学増幅型レジストを用いたチャージアップ防止剤の評価条件の検討 |
昭和電工株式会社 |
大久保 隆 |
電子ビーム露光装置・走査電子顕微鏡 |
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| 2008-東工大-04 |
超微細加工 |
共同研究 |
GaMnAs二重障壁磁気トンネル接合への高電流注入による磁気抵抗ゆらぎ |
東工大・理工・物性物理学専攻・吉野研 |
吉野 淳二 |
電子ビーム露光装置・走査電子顕微鏡・蒸着器・マスクアライナ |
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| 2008-東工大-05 |
超微細加工 |
技術代行 |
ナノグラフェン孔構造の作製と評価 |
東工大・理工・化学専攻 榎研 |
高井 和之 |
電子ビーム露光装置 |
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| 2008-東工大-06 |
超微細加工 |
技術代行 |
電子ビーム露光と無電解金メッキ法を用いた分子ナノデバイスの試作に関する研究 |
東工大・理工・電子物理工学専攻・真島研 |
真島 豊 |
電子ビーム露光装置・走査電子顕微鏡・蒸着器 |
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| 2008-東工大-07 |
超微細加工 |
技術代行 |
単一カーボンナノチューブの発光測定 |
東工大・理工・物性物理学専攻・南研 |
南不二雄 |
電子ビーム露光装置・走査電子顕微鏡 |
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| 2008-東工大-08 |
超微細加工 |
技術代行 |
新しいポジ型化学増幅型レジストを用いたチャージアップ防止剤の評価 |
昭和電工株式会社 |
大久保 隆 |
電子ビーム露光装置・走査電子顕微鏡 |
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| 2008-東工大-09 |
超微細加工 |
技術代行 |
レーザ干渉結晶化による1次元及び２次元ナノ結晶シリコンアレイの直接作製 |
南京大学 |
クンジー・チェン |
電子ビーム露光装置・走査電子顕微鏡・リアクティブイオンエッチング装置 |
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| 2008-東工大-10 |
超微細加工 |
共同研究 |
高速・低消費電力デジタル応用の為のInAs QWFETs |
台灣國立交通大學 |
張 翼 |
電子ビーム露光装置 |
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| 2008-東工大-11 |
計測・分析 |
共同研究 |
電磁力衝撃圧着した異材接合材の界面組織 |
東工大・ ・材料物理科学専攻・熊井研 |
熊井 真次 |
日立超高圧電子顕微鏡H-1250S形 |
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| 2008-東工大-12 |
超微細加工 |
技術代行 |
電子線レジストZEP520Aへのフラーレン誘導体添加による感度への影響 |
フロンティアカーボン株式会社 |
田中 克知 |
電子ビーム露光装置・走査電子顕微鏡 |
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| 2008-東工大-13 |
超微細加工 |
共同研究 |
GaMnAs二重トンネル接合における電流注入磁化反転の低閾値化メカニズムの解明 |
東工大・理工・物性物理学専攻・吉野研 |
吉野 淳二 |
電子ビーム露光装置・走査電子顕微鏡・蒸着器・マスクアライナ |
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| 2008-東工大-14 |
超微細加工 |
技術代行 |
電子線描画による石英上ワイヤーグリッド偏光子の作成 |
株式会社サンリッツ |
高橋
泰広 |
電子ビーム露光装置・走査電子顕微鏡 |
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| 2008-東工大-15 |
超微細加工 |
技術代行 |
チャージアップ防止剤を用いた新しいp-CARへのPEB条件の評価 |
昭和電工株式会社 |
大久保 隆 |
電子ビーム露光装置・走査電子顕微鏡 |
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| 2008-東工大-16 |
計測・分析 |
共同研究 |
温間バルジ成形によるマグネシウム合金製T継手の製造― 押出し材の機械的特性と結晶組織
― |
法政大学・工学部・機械工学科・直井研 |
直井 久 |
日立超高圧電子顕微鏡H-1250S形 |
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| 2008-東工大-17 |
超微細加工 |
技術代行 |
電子線レジストZEP520Aへのフラーレン誘導体添加による解像性への影響 |
フロンティアカーボン株式会社 |
田中 克知 |
電子ビーム露光装置・走査電子顕微鏡 |
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| 2008-東工大-18 |
超微細加工 |
技術代行 |
レーザー蒸着によるナノグラフェンの作製 |
東工大・理工・化学専攻 榎研 |
高井 和之 |
電子ビーム露光装置 |
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| 2008-東工大-19 |
超微細加工 |
技術代行 |
金属フォトニック結晶からのSmith-Purcell放射 |
東工大・理工・物性物理専攻・山本研 |
山本 直紀 |
電子ビーム露光装置・走査電子顕微鏡・蒸着器・リアクティブイオンエッチング装置 |
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| 2008-東工大-20 |
超微細加工 |
技術代行 |
ナノギャップ電極作製を目指したEBリソグラフィー法における精密アライメント |
分子科学研究所 |
日野 貴美 |
電子ビーム露光装置・走査電子顕微鏡・蒸着器 |
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| 2008-東工大-21 |
超微細加工 |
共同研究 |
微細加工技術を利用したテラヘルツデバイスの作製 |
キヤノン株式会社 |
尾内 敏彦 |
電子ビーム露光装置・蒸着器・マスクアライナ・リアクティブイオンエッチング装置・プラズマCVD装置 |
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| 2008-東工大-22 |
計測・分析 |
共同研究 |
鉄系形状記憶合金の形状回復応力特性 |
法政大学・工学部・機械工学科・直井研 |
直井 久 |
日立超高圧電子顕微鏡H-1250S形 |
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| 2008-東工大-23 |
超微細加工 |
技術代行 |
電子線レジストZEP520Aへのフラーレン誘導体添加によるエッチング耐性への影響 |
フロンティアカーボン株式会社 |
田中 克知 |
電子ビーム露光装置・走査電子顕微鏡・リアクティブイオンエッチング装置 |
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| 2008-東工大-24 |
超微細加工 |
技術代行 |
精密アライメントEBリソグラフィー法によるナノギャップ電極作製 |
分子科学研究所 |
日野 貴美 |
電子ビーム露光装置・走査電子顕微鏡・蒸着器 |
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| 2008-東工大-25 |
超微細加工 |
共同研究 |
GaAs基板上のZrO2 high-k 誘電体によるメタモルフィック In0.53Ga0.47As
金属-酸化物-半導体構造 |
台灣國立交通大學 |
張 翼 |
走査電子顕微鏡 |
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| 2008-東工大-26 |
超微細加工 |
技術代行 |
電子線描画による無アルカリガラス上ワイヤーグリッド偏光子の作成 |
株式会社サンリッツ |
高橋
泰広 |
電子ビーム露光装置・走査電子顕微鏡 |
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| 2008-東工大-27 |
超微細加工 |
技術代行 |
電子ビーム露光と磁性ナノ粒子を用いたトンネル磁気抵抗素子の試作に関する研究 |
東工大・理工・電子物理工学専攻・真島研 |
真島 豊 |
電子ビーム露光装置・走査電子顕微鏡・蒸着器 |
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| 2008-東工大-28 |
超微細加工 |
技術代行 |
酒石酸ウェットエッチングによるGaAs回折格子形成 |
株式会社QDレーザ |
近藤 勇人 |
電子ビーム露光装置・蒸着器・マスクアライナ・リアクティブイオンエッチング装置・プラズマCVD装置 |
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| 2008-東工大-29 |
超微細加工 |
技術代行 |
ナノギャップ電極作製に向けたEBリソグラフィー法によるPtパターンの作製 |
分子科学研究所 |
日野 貴美 |
電子ビーム露光装置・走査電子顕微鏡・蒸着器 |
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| 2008-東工大-30 |
超微細加工 |
技術代行 |
p-CAR向けのチャージアップ防止剤の添加剤の検討 |
昭和電工株式会社 |
大久保 隆 |
電子ビーム露光装置・走査電子顕微鏡 |
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| 2008-東工大-31 |
超微細加工 |
技術代行 |
電子線レジストZEP520Aへのフラーレン誘導体添加による耐熱性への影響 |
フロンティアカーボン株式会社 |
田中 克知 |
電子ビーム露光装置・走査電子顕微鏡 |
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| 2008-東工大-32 |
超微細加工 |
技術代行 |
端部位を持つグラフェンの作製とその構造 |
東工大・理工・化学専攻 榎研 |
高井 和之 |
電子ビーム露光装置 |
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| 2008-東工大-33 |
計測・分析 |
共同研究 |
ナノ結晶シリコンドットへの不純物ドーピング |
東工大・理工・電子物理工学専攻・小田研 |
小田 俊理 |
日本電子JEM-2010型電子顕微鏡、イオンミリング装置 |
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| 2008-東工大-34 |
超微細加工 |
共同研究 |
低電圧・高速応用の為の45nm 複合InAs-HEMTs |
台灣國立交通大學 |
張 翼 |
電子ビーム露光装置 |
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| 2008-東工大-35 |
超微細加工 |
技術代行 |
Pt親構造を有する基板上へのAg/Ag2S微細パターン形成 |
分子科学研究所 |
日野 貴美 |
電子ビーム露光装置・走査電子顕微鏡・蒸着器 |
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| 2008-東工大-36 |
超微細加工 |
技術代行 |
電子線レジストOEBR-1000LBへのフラーレン誘導体添加によるエッチング耐性への影響 |
フロンティアカーボン株式会社 |
田中 克知 |
電子ビーム露光装置・走査電子顕微鏡・リアクティブイオンエッチング装置 |
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| 2008-東工大-37 |
超微細加工 |
技術代行 |
1次元プラズモニック結晶のバンドギャップ |
東工大・理工・物性物理専攻・山本研 |
山本 直紀 |
電子ビーム露光装置・走査電子顕微鏡・蒸着器 |
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| 2008-東工大-38 |
超微細加工 |
共同研究 |
GaMnAsを磁性層とする二重障壁型磁気トンネル接合の形成プロセス検討 |
東工大・理工・物性物理学専攻・吉野研 |
吉野 淳二 |
電子ビーム露光装置・走査電子顕微鏡・蒸着器・マスクアライナ |
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| 2008-東工大-39 |
計測・分析 |
共同研究 |
電界紡糸化したナノファイバーの物性解析 |
東工大・ ・生体分子機能工学専攻・赤池研 |
赤池 敏弘 |
日立超高圧電子顕微鏡H-1250S形 |
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| 2008-東工大-40 |
超微細加工 |
技術代行 |
分子定規法によるナノギャップ電極作製に向けたパターン形成 |
分子科学研究所 |
日野 貴美 |
電子ビーム露光装置・走査電子顕微鏡・蒸着器 |
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| 2008-東工大-41 |
計測・分析 |
共同研究 |
キラリティーを持つポリジアセチレン薄膜の形成と新規特性の発現 |
東工大・理工・電子物理工学専攻・岩本研 |
岩本 光正 |
日立超高圧電子顕微鏡H-1250S形 |
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| 2008-東工大-42 |
超微細加工 |
共同研究 |
微細加工技術を用いて作製したテラヘルツデバイスの評価 |
キヤノン株式会社 |
尾内 敏彦 |
電子ビーム露光装置・蒸着器・マスクアライナ・リアクティブイオンエッチング装置・プラズマCVD装置 |
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| 2008-東工大-43 |
超微細加工 |
共同研究 |
ボウタイアンテナを集積したNi-InPショットキーバリアダイオードによるサブTHz～THz検出素子の作製と特性 |
仙台電波高専 |
鈴木 哲 |
電子ビーム露光装置・有機金属気相成長装置・蒸着器・マスクアライナ・リアクティブイオンエッチング装置 |
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| 2008-東工大-44 |
計測・分析 |
共同研究 |
Cu-Co合金中のCo析出ナノ粒子の観察 |
東工大・総理工・材料物理科学専攻・加藤研 |
加藤 雅治 |
日立超高圧電子顕微鏡H-1250S形 |
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| 2008-東工大-45 |
計測・分析 |
技術代行 |
ナノ結晶シリコン発光素子の研究 |
東工大・理工・電子物理工学専攻・小田研 |
小田 俊理 |
日本電子JEM-2010型電子顕微鏡、イオンミリング装置 |
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| 2008-東工大-46 |
超微細加工 |
技術代行 |
分子定規を有するパターン上への微細加工 |
分子科学研究所 |
日野 貴美 |
電子ビーム露光装置・走査電子顕微鏡・蒸着器 |
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