| 平成２１年度極微細加工支援課題一覧 | ||||||
| 課題番号 | 支援機能名 | 業務形態名 | 実施課題名 | 申請者の所属 | 申請者 | 主な利用装置名 |
| 2009-TTF-1 | 超微細加工 | 技術代行 | カーボンナノチューブ成長のためのドットパタン形成法の研究 | 神奈川大学理学部情報科学科 | 中田 穣治 | 電子ビーム露光装置・走査電子顕微鏡・リアクティブイオンエッチング装置 |
| 2009-TTF-2 | 超微細加工 | 技術代行 | Ag2S/Agナノギャップ電極における光アシストAg架橋現象およびスイッチング挙動の観察 |
大阪大学理学研究科 化学専攻小川研究室 | 日野 貴美 | 電子ビーム露光装置・走査電子顕微鏡・リアクティブイオンエッチング装置・プラズマCVD・電子ビーム蒸着装置 |
| 2009-TTF-3 | 超微細加工 | 共同研究 | ソース/ドレイン間隔を縮めた70nm量子井戸電界効果トランジスタでの直流および高周波特性改善 | 國立交通大学 | 張 翼 | 電子ビーム露光装置 |
| 2009-TTF-4 | 超微細加工 | 技術代行 | 電子線レジストライン&スペースパターンの現像 | 株式会社トクヤマつくば研究所 | 東野 誠司 | 電子ビーム露光装置・走査電子顕微鏡 |
| 2009-TTF-5 | 超微細加工 | 技術代行 | 電子ビーム露光と無電解金メッキ法を用いて作製したナノギャップ電極における常温クーロンブロッケード現象の観察 |
東工大・応用セラミック研究所・真島研 | 真島 豊 | 電子ビーム露光装置・走査電子顕微鏡・電子ビーム蒸着装置 |
| 2009-TTF-6 | 超微細加工 | 技術代行 | 強誘電体ゲートトランジスタの微細化に向けたSub-µmゲート電極幅及びソースドレーン電極ギャップの作製 | JST-ERATO下田ナノ液体プロセスプロジェクト | 宮迫 毅明 | 電子ビーム露光装置・走査電子顕微鏡 |
| 2009-TTF-7 | 超微細加工 | 技術代行 | 新規Pt-Ag2S/Ag対向ナノギャップ電極作製 (1) | 大阪大学理学研究科 化学専攻小川研究室 | 日野 貴美 | 電子ビーム露光装置・走査電子顕微鏡・リアクティブイオンエッチング装置・プラズマCVD・電子ビーム蒸着装置 |
| 2009-TTF-8 | 超微細加工 | 共同研究 | InxGa1-xAs 80nmHEMTの論理性能評価 | 國立交通大学 | 張 翼 | 電子ビーム露光装置 |
| 2009-TTF-9 | 超微細加工 | 技術代行 | チップ増強法による表面プラズモン分布の観察 | 東工大・理工・物性物理学専攻・南研 | 南 不二雄 | 電子ビーム露光装置・走査電子顕微鏡 |
| 2009-TTF-10 | 超微細加工 | 技術代行 | 1次元プラズモニック結晶中のCavityモード | 東工大・理工・物性物理学専攻・山本研 | 山本 直紀 | 電子ビーム露光装置・走査電子顕微鏡・リアクティブイオンエッチング装置・電子ビーム蒸着装置 |
| 2009-TTF-11 | 超微細加工 | 技術代行 | 新規Pt-Ag2S/Ag対向ナノギャップ電極作製 (2) | 大阪大学理学研究科 化学専攻小川研究室 | 日野 貴美 | 電子ビーム露光装置・走査電子顕微鏡・リアクティブイオンエッチング装置・プラズマCVD・電子ビーム蒸着装置 |
| 2009-TTF-12 | 超微細加工 | 技術代行 | QPC素子のプロセス確認 | 東北大学 | 平山 祥郎 | 電子ビーム露光装置・走査電子顕微鏡 |
| 2009-TTF-13 | 超微細加工 | 共同研究 | 100 nm ゲートリセスn-GaN/AlGaN/GaN HEMTの30-GHz 低雑音特性 | 國立交通大学 | 張 翼 | 電子ビーム露光装置 |
| 2009-TTF-14 | 超微細加工 | 技術代行 | フラーレン誘導体を用いたポジ型化学増幅型レジストのＥＢ露光でのPAG種依存性 | 三菱化学株式会社フラーレン開発グループ | 田中 克知 | 電子ビーム露光装置・走査電子顕微鏡 |
| 2009-TTF-15 | 超微細加工 | 共同研究 | GaMnAs磁気トンネル接合の高周波応答に関する研究 | 東工大・理工・物性物理学専攻・吉野淳二研 | 吉野 淳二 | 電子ビーム露光装置・走査電子顕微鏡・電子ビーム蒸着装置 |
| 2009-TTF-16 | 超微細加工 | 技術代行 | 無電解金メッキ法の自己停止機能を用いたナノギャップ電極作製に関する研究 |
東工大・応用セラミック研究所・真島研 | 真島 豊 | 電子ビーム露光装置・走査電子顕微鏡・電子ビーム蒸着装置 |
| 2009-TTF-17 | 超微細加工 | 技術代行 | アルミの表面プラズモン共鳴を用いたフォトレジストのナノ加工 | 独立行政法人 物質・材料研究機構 | 瀬川 浩代 | 電子ビーム露光装置・走査電子顕微鏡・電子ビーム蒸着装置 |
| 2009-TTF-18 | 超微細加工 | 技術代行 | 酸素プラズマ加工によるナノグラフェンの作製 | 東工大・理工・化学専攻・榎研究室 | 高井 和之 | 電子ビーム露光装置・走査電子顕微鏡・リアクティブイオンエッチング装置・電子ビーム蒸着装置 |
| 2009-TTF-19 | 超微細加工 | 技術代行 | 電子線レジストドットパターンの現像 | 株式会社トクヤマつくば研究所 | 東野 誠司 | 電子ビーム露光装置・走査電子顕微鏡 |
| 2009-TTF-20 | 超微細加工 | 技術代行 | フォトディテクター用Au表面プラズモンアンテナの形成 | 静岡大学電子工学研究所 | 猪川 洋 | 電子ビーム露光装置・走査電子顕微鏡・電子ビーム蒸着装置 |
| 2009-TTF-21 | 超微細加工 | 技術代行 | 強磁性半導体GaMnAsマイクロ・ナノ構造の作製と磁気異方性制御 | 東工大・理工・附属像情報工学研究施設・宗片研 | 宗片 比呂夫 | 電子ビーム露光装置・走査電子顕微鏡・電子ビーム蒸着装置 |
| 2009-TTF-22 | 超微細加工 | 技術代行 | 交流法による熱伝導率測定のための試料作成 | 東工大・理工・物性物理学専攻・井澤研 | 井澤 公一 | 電子ビーム露光装置・走査電子顕微鏡・電子ビーム蒸着装置 |
| 2009-TTF-23 | 超微細加工 | 技術代行 | フラーレン誘導体を用いたポジ型化学増幅型レジストのＥＢ露光でのヨードニウム塩系PAG依存性 | 三菱化学株式会社フラーレン開発グループ | 田中 克知 | 電子ビーム露光装置・走査電子顕微鏡 |
| 2009-TTF-24 | 超微細加工 | 技術代行 | QPC素子の試作および評価 | 東北大学 | 平山 祥郎 | 電子ビーム露光装置・走査電子顕微鏡 |
| 2009-TTF-25 | 超微細加工 | 技術代行 | 新規Pt-Ag2S/Ag対向ナノギャップ電極作製 (3) | 大阪大学理学研究科 化学専攻小川研究室 | 日野 貴美 | 電子ビーム露光装置・走査電子顕微鏡・リアクティブイオンエッチング装置・プラズマCVD・電子ビーム蒸着装置 |
| 2009-TTF-26 | 超微細加工 | 技術代行 | EUVレジスト材料におけるプロセス環境依存性評価 | 東京応化工業株式会社 | 高木 勇 | 電子ビーム露光装置・走査電子顕微鏡 |
| 2009-TTF-27 | 超微細加工 | 技術代行 | 表面プラズモン共鳴を用いた有機-無機ハイブリッド材料のナノ加工 | 独立行政法人 物質・材料研究機構 | 瀬川 浩代 | 電子ビーム露光装置・走査電子顕微鏡・電子ビーム蒸着装置 |
| 2009-TTF-28 | 超微細加工 | 技術代行 | Sub-µmギャップソース／ドレーン電極を用いた強誘電体ゲートトランジスタ | JST-ERATO下田ナノ液体プロセスプロジェクト | 宮迫 毅明 | 電子ビーム露光装置・走査電子顕微鏡 |
| 2009-TTF-29 | 超微細加工 | 技術代行 | EBリソグラフィーによる20nm、200nmTiO2ドット及びライン形成の為のRIEエッチングマスクの開発 |
東工大・理工・Cross研 | Cross Jeffrey Scott | 電子ビーム露光装置・走査電子顕微鏡・リアクティブイオンエッチング装置・電子ビーム蒸着装置 |
| 2009-TTF-30 | 超微細加工 | 共同研究 | ミリ波応用に向けた(InxGa1-xAs)m/(InAs)n 超格子チャネル構造を用いたメタモルフィック高電子移動度トランジスタの高周波特性改善 | 國立交通大学 | 張 翼 | 電子ビーム露光装置 |
| 2009-TTF-31 | 超微細加工 | 技術代行 | 表面プラズモン共鳴を用いたナノ加工 | 独立行政法人 物質・材料研究機構 | 瀬川 浩代 | 電子ビーム露光装置・走査電子顕微鏡・電子ビーム蒸着装置 |
| 2009-TTF-32 | 超微細加工 | 技術代行 | 現像液による電子線レジストの感度向上の検討（L&Sパターン） | 株式会社トクヤマつくば研究所 | 東野 誠司 | 電子ビーム露光装置・走査電子顕微鏡 |
| 2009-TTF-33 | 超微細加工 | 技術代行 | フラーレン誘導体を用いたポジ型化学増幅型レジストのＥＢ露光での保護化率依存性 |
三菱化学株式会社フラーレン開発グループ | 田中 克知 | 電子ビーム露光装置・走査電子顕微鏡 |
| 2009-TTF-34 | 超微細加工 | 技術代行 | 交流法による熱伝導率測定手法の開発 | 東工大・理工・物性物理学専攻・井澤研 | 井澤 公一 | 電子ビーム露光装置・走査電子顕微鏡・電子ビーム蒸着装置 |
| 2009-TTF-35 | 超微細加工 | 技術代行 | EUVレジストにおける膜厚に対する解像性能比較 | 東京応化工業株式会社 | 高木 勇 | 電子ビーム露光装置・走査電子顕微鏡 |
| 2009-TTF-36 | 超微細加工 | 技術代行 | パターン化ナノクリスタルシリコン構造の作製と応用 | 南京大 | Kunji Chen | 電子ビーム露光装置・走査電子顕微鏡・電子ビーム蒸着装置 |
| 2009-TTF-37 | 超微細加工 | 技術代行 | 電子ビーム露光を用いたナノ構造体の作成 | 日産自動車⑭ 総合研究所 | 太田最実 | 電子ビーム露光装置・走査電子顕微鏡・電子ビーム蒸着装置 |
| 2009-TTF-38 | 超微細加工 | 技術代行 | 新規Pt-Ag2S/Ag対向ナノギャップ電極量産の試み(1) | 大阪大学理学研究科 化学専攻小川研究室 | 日野 貴美 | 電子ビーム露光装置・走査電子顕微鏡・リアクティブイオンエッチング装置・プラズマCVD・電子ビーム蒸着装置 |
| 2009-TTF-39 | 超微細加工 | 技術代行 | 20nm、200nmTiO2ドット及びライン形成用 EBリソグラフィー開発 |
東工大・理工・Cross研 | Cross Jeffrey Scott | 電子ビーム露光装置・走査電子顕微鏡・リアクティブイオンエッチング装置・電子ビーム蒸着装置 |
| 2009-TTF-40 | 超微細加工 | 技術代行 | 現像液による電子線レジストの感度向上の検討（Dotパターン） | 株式会社トクヤマつくば研究所 | 東野 誠司 | 電子ビーム露光装置・走査電子顕微鏡 |
| 2009-TTF-41 | 超微細加工 | 技術代行 | グラフェンFETにおける酸素吸着のゲート電圧依存性 | 東工大・理工・化学専攻・榎研究室 | 高井 和之 | 電子ビーム露光装置・走査電子顕微鏡・リアクティブイオンエッチング装置・電子ビーム蒸着装置 |
| 2009-TTF-42 | 超微細加工 | 技術代行 | フラーレン誘導体を用いたポジ型化学増幅型レジストのＥＢ露光での保護基依存性 |
三菱化学株式会社フラーレン開発グループ | 田中 克知 | 電子ビーム露光装置・走査電子顕微鏡 |
| 2009-TTF-43 | 超微細加工 | 共同研究 | 論理応用に向けたInGaP HEMTの研究 | 國立交通大学 | 張 翼 | 電子ビーム露光装置 |
| 2009-TTF-44 | 超微細加工 | 技術代行 | EBリソグラフィーによる20nmTiO2薄膜ドット及びライン形成 | 東工大・理工・Cross研 | Cross Jeffrey Scott | 電子ビーム露光装置・走査電子顕微鏡・リアクティブイオンエッチング装置・電子ビーム蒸着装置 |
| 2009-TTF-45 | 超微細加工 | 技術代行 | 新規Pt-Ag2S/Ag対向ナノギャップ電極量産の試み(2) | 大阪大学理学研究科 化学専攻小川研究室 | 日野 貴美 | 電子ビーム露光装置・走査電子顕微鏡・リアクティブイオンエッチング装置・プラズマCVD・電子ビーム蒸着装置 |
| 2009-TTF-46 | 超微細加工 | 技術代行 | グラフェン端近傍における電子構造の実空間解析 | 東工大・理工・化学専攻・榎研究室 | 高井 和之 | 電子ビーム露光装置・走査電子顕微鏡・リアクティブイオンエッチング装置・電子ビーム蒸着装置 |