| 課題番号 | 支援申込者 | 申込課題 | 支援形態 |
|---|---|---|---|
| F東工H15-001 | 日本電気 | ドライエッチ回折格子を有する高機能光集積デバイスの研究 | 技術代行 |
| F東工H15-002 | 東工大・理工・電子物理工学専攻・真島研 | トランジスタ構造における自己組織化単分子膜分子の電流変調の観測 | 共同研究 |
| F東工H15-003 | 松下電器産業 | フォトニック結晶によるGaN系青色LEDの高効率化 | 技術代行 |
| F東工H15-004 | 通信総研 | 共鳴トンネル型量子効果サブミリ波デバイスの作製とその性能評価 | 共同研究 |
| F東工H15-005 | 群馬大学・電気電子工学科・大畠昭子 | 単一電子効果を用いたデジタルイメージセンサ | 共同研究 |
| F東工H15-006 | 東工大・理工・物性物理学専攻・南研 | 低密度量子ドット顕微分光スペクトル測定の為のマスク作製 | 技術代行 |
| F東工H15-007 | 三菱ガス化学 | 分岐化合物を用いた新規レジストの開発 | 技術代行 |
| F東工H15-008 | ソニー | PMMAおよびZEP520を用いた電子ビーム用レジストの微細パターン形成 | 共同研究 |
| F東工H15-009 | 日立製作所 | 電子線直接描画法を用いた次世代デバイス用ナノスケールパターン形成 | 共同研究 |
| F東工H15-010 | 東海大学・開発工学部・後藤研 | GaP単結晶へのナノ加工周期構造溝形成と表面プラズモン用金属膜 | 共同研究 |
| F東工H15-011 | ソニー | EB-lithographyを利用したナノサイズ標準サンプルの作製 | 技術代行 |
| F東工H15-012 | エンプラス研究所 | Ｓｉ微細構造体形成のための作製プロセスの最適化 | 技術代行 |
| F東工H15-013 | 松下電器産業 | 電子ビーム露光を用いた70 nm T型ゲートの形成 | 技術代行 |
| F東工H15-014 | 富士通 | 電子ビーム露光による超高速デバイス用微細パターンの作製 | 技術代行 |
| F東工H15-015 | 東工大・理工・物性物理学専攻・山本研 | 表面プラズモン発光用表面微細構造の作製 | 技術代行 |
| F東工H15-016 | 東工大・理工・物性物理学専攻・吉野研 | 磁性半導体TMR構造におけるスピン注入効果に関する研究 | 技術代行 |
| F東工H15-017 | 東工大・理工・有機・高分子物質専攻・上田研 | 低分子アモルファス材料を用いた電子ビーム用レジスト材料の開発 | 技術代行 |
| F東工H15-018 | 東工大・理工・電子物理工学専攻・真島研 | 自己組織化単分子膜における負性微分コンダクタンスの検討 | 共同研究 |
| F東工H15-019 | 松下電器産業 | 電子ビーム露光を用いたネガレジスト微細パターンの形成 | 技術代行 |
| F東工H15-020 | 三菱ガス化学 | 低分子化合物を用いた新規レジストの開発 | 技術代行 |
| F東工H15-021 | ソニー | 電子ビーム用レジストのエッジラフネスにおける潜像イメージの影響 | 共同研究 |
| F東工H15-022 | 東海大学・開発工学部・後藤研 | 近接場光ヘッドの金属薄膜上へ20nm〜30nm超微細開口作製の研究 | 共同研究 |
| F東工H15-023 | エンプラス研究所 | ナノ構造形成のための金属ワイヤ−マスク作製プロセスの最適化 | 技術代行 |
| F東工H15-024 | リコー生産技術研究所 | 電子ビームによる微細グルーブパターン形成 | 技術代行 |
| F東工H15-025 | 東京応化工業株式会社 | 低分子アモルファス材料を用いた電子線レジストの開発 | 技術代行 |