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4結晶X線回折装置 超高分解能X線回折測定が可能であり、種々の単結晶試料の格子定数及び格子定数の試料内での分布のみならず、 超格子構造の周期及びその分布などの測定に用いています。
熱陰極電界放射銃及び高精度試料台を装備した電子線描画露光装置であり、本センターのみならず学内共同利用設備 として広く利用されています。本センターでは、この装置を用いて10nm級の極微構造(量子細線・量子箱)を高密度形成すること、 及びこれらを用いる量子効果デバイスの研究を行っています。 電子線露光描画装置
集束イオンビーム加工装置 イオン源からのビームを絞り、半導体等の試料を直接極微加工するための装置であり、 これを用いて光走査トンネル顕微鏡(フォトンSTM)用ファイバプローブの先端加工や光及び電子デバイスの極微形状作製を行っています。
電子サイクロトロン共鳴(ECR)により低エネルギーのイオンを形成し、これを用いて高アスペクト比の極微細パターンが低損傷で作製できます。 電子サイクロトロン共鳴反応性イオンビームエッチング装置
反応性プラズマエッチング装置 全自動の反応性プラズマイオンエッチング装置。高アスペクト比の半導体極微構造形成を再現性よく行うことができます。
シランガスを超高周波(VHF)プラズマで分解して粒径10nm以下のナノクリスタルシリコンを形成します。 ナノクリスタルシリコン製造装置
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