使用料について
1.ナノプラットの公開の原則(報告書提出の義務,論文等発表時の謝辞の義務,特許出願報告の義務及び試料の譲渡による利益を得ることの禁止)による場合

一露光当たり(他のプロセスを含んでも)       5,000円
有機金属気相成長装置 一成長あたり    800円
集束イオンビーム装置 一観察あたり        800円
基板貼付け装置 一貼付けあたり          1,500円
蒸着器 一蒸着あたり                300円
スパッタ装置(ケーサイエンス製) 一成膜あたり    1,400円
RIE装置 一エッチングあたり    400円
ICP-RIE 装置 一エッチングあたり   1,200円
ウェハ洗浄装置 一洗浄あたり          1,500円
密着型手動マスクアライナ一露光当たり       300円
プラズマCVD 一成膜あたり            200円
走査型電子顕微鏡 一観察当たり          200円
段差計 一観察あたり                200円
デジタル光学顕微鏡 一観察あたり         200円
低真空SEM 一観察あたり            200円
使用主装置の電気代のみを算出根拠としています。


2.ナノプラットの公開の原則によらない場合(自主事業)

一露光当たり(他のプロセスを含んでも)             100,000円
有機金属気相成長装置 一成長あたり  43,000円
集束イオンビーム装置 一観察あたり       17,000円
基板貼付け装置 一貼付けあたり          14,000円
蒸着器 一蒸着あたり               14,000円
スパッタ装置(ケーサイエンス製) 一成膜あたり   14,000円
RIE装置 一エッチングあたり    12,000円
ICP-RIE 装置 一エッチングあたり   8,000円
ウェハ洗浄装置 一洗浄あたり          7,000円
密着型手動マスクアライナ一露光当たり      6,000円
プラズマCVD 一成膜あたり           6,000円
走査型電子顕微鏡 一観察当たり          6,000円
段差計 一観察あたり               1,700円
デジタル光学顕微鏡 一観察あたり        1,300円
低真空SEM 一観察あたり           1,300円
国立大学法人は営利企業でないことから、人件費・消耗品・装置保守費を算出根拠としております。算出根拠には、装置減却償却費相当は含まれておりません。