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実験設備
- 電子ビーム露光装置(日本電子製JBX-6300UA ＆JBX-6300SJ)
- InP系横型減圧有機金属気相成長装置（日本酸素製HR-3246）
- リアクテブイオンエッチング装置 (サムコインターナショナルRIE-10NR 3台 ICP-RIE 1台)
- シリコン酸化膜形成用のプラズマCVD装置(サムコインターナショナルPD-240 1台)
- 原子層堆積装置(ALD Cambridge Nanotech Savannah 1台)
- ロードロックチャンバ付き6連電子銃蒸着器（エイコーエンジニアリング製）
- 観察用高解像度走査型電子顕微鏡（日立製作所製S-5000/S-5200 各1台）
- 観察用集束イオンビーム装置（日立製作所製FB-2000A 、マイクロサンプリング機能付き 1台）
- 窒素雰囲気オーブン
- 触針式段差計(KLAテンコール社製アルファステップ500)
- 半導体パラメータアナライザ(HP-4142B, HP4155A, HP-4155B各1台),
- ネットワークアナライザ（アンリツMS4647A, 70 GHz まで測定可能）
- 極低温プローバ(長瀬産業BCT-10, 20Kまでの測定が可能)
等の作製・評価装置が有ります。
電子ビーム露光装置 |
電子ビーム露光装置 |
有機金属気相成長装置 |
ロードロックチャンバ付き6連子銃蒸着器 |
高解像度走査型電子顕微鏡 |
集束イオンビーム装置 |
プラズマ-CVD装置 |
RIE(Reactive Ion Etching)装置 |