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輪講スケジュール
東京科学大学
未来産業技術研究所
工学院電気電子系
実験設備

  • 電子ビーム露光装置(日本電子製JBX-6300UA &JBX-6300SJ)
  • InP系横型減圧有機金属気相成長装置(日本酸素製HR-3246)
  • リアクテブイオンエッチング装置 (サムコインターナショナルRIE-10NR 3台 ICP-RIE  1台)
  • シリコン酸化膜形成用のプラズマCVD装置(サムコインターナショナルPD-240 1台)
  • 原子層堆積装置(ALD Cambridge Nanotech Savannah 1台)
  • ロードロックチャンバ付き6連電子銃蒸着器(エイコーエンジニアリング製)
  • 観察用高解像度走査型電子顕微鏡(日立製作所製S-5000/S-5200 各1台)
  • 観察用集束イオンビーム装置(日立製作所製FB-2000A 、マイクロサンプリング機能付き 1台)
  • 窒素雰囲気オーブン
  • 触針式段差計(KLAテンコール社製アルファステップ500)
  • 半導体パラメータアナライザ(HP-4142B, HP4155A, HP-4155B各1台),
  • ネットワークアナライザ(アンリツMS4647A, 70 GHz まで測定可能)
  • 極低温プローバ(長瀬産業BCT-10, 20Kまでの測定が可能)
    等の作製・評価装置が有ります。

電子ビーム露光装置
(日本電子製 JBX-6300UA)

電子ビーム露光装置
(日本電子製 JBX-6300SJ)

有機金属気相成長装置
(日本酸素製 HR3246)

ロードロックチャンバ付き6連子銃蒸着器
(エイコーエンジニアリング製)

高解像度走査型電子顕微鏡
(日立製作所製S-5200)

集束イオンビーム装置
(日立製作所製FB-2000A)

プラズマ-CVD装置

RIE(Reactive Ion Etching)装置